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氧化鋅是提供鋅離子的來(lái)源。在配制鍍液時(shí)也可不用氧化鋅,而用氰化鋅。若氧化鋅含量較高,可允許較大的電流密度、電流效率也高、沉積速度快,但覆蓋能力較低、鍍層結(jié)晶較粗;氧化鋅含量低時(shí),允許的電流密度也低、電流效率相對(duì)降低,但分散能力和覆蓋能力升高、鍍層結(jié)晶細(xì)致光亮,適宜鍍形狀較復(fù)雜的產(chǎn)品。在能滿(mǎn)足鍍件質(zhì)量的前提下,氧化鋅含量盡可能取上限。另外,氧化鋅的含量還要與游離氰化鈉的濃度和氫氧化鈉的含量相適應(yīng),也和鍍液溫度有關(guān)。實(shí)踐表明,以鍍液溫度來(lái)確定鋅離子濃度,也是有效的鍍液維護(hù)方法之一。