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在化學(xué)鍍中,化學(xué)鍍銅是十分重要的鍍種,隨著電子工業(yè)的發(fā)展,特別是電子計(jì)算機(jī)、電子通信設(shè)備,以及家用電器的高速發(fā)展,雙面和多層印制電路板的需求量很大,因此化學(xué)鍍銅的需求也隨之增加。
從廣義的角度來(lái)看,我們祖先很早就知道在鐵表面置換鍍銅。不過(guò),這里要介紹的是現(xiàn)代關(guān)于化學(xué)鍍銅的歷史。
最早關(guān)于化學(xué)鍍銅的記述,可能是1887年由法拉第做出的。他將氧化亞銅和橄欖油一起加熱,使氧化亞銅還原,在玻璃上獲得了銅鍍層。
為了尋求比銀鏡法更為廉價(jià)的化學(xué)處理液,很早就有人研究在堿性條件下以福爾馬林為還原劑的化學(xué)鍍銅法,這就是所謂的“沉銅法”。但是由于溶液本身的穩(wěn)定性太差,在很長(zhǎng)一段時(shí)間內(nèi)沒(méi)有獲得突破,從而使其應(yīng)用受到阻礙,結(jié)果比化學(xué)鍍鎳的工業(yè)化要遲一些。
20世紀(jì)50年代是電子工業(yè)大發(fā)展的時(shí)期,這時(shí)對(duì)印刷線路板的孔位金屬化提出了實(shí)踐的要求,從而刺激了化學(xué)鍍銅的研究。到了20世紀(jì)60年代,由于塑料電鍍的出現(xiàn)以及孔位金屬化技術(shù)的成熟,化學(xué)鍍銅終于以工業(yè)化生產(chǎn)規(guī)模的姿態(tài)出現(xiàn)了。
用于工業(yè)化的化學(xué)鍍銅工藝分為兩大類。一類是用在塑料電鍍和孔位金屬化場(chǎng)合,鍍層厚度在1μm以下的薄導(dǎo)電性鍍層。這種類型的化學(xué)鍍銅液主要是穩(wěn)定性高,便于在生產(chǎn)線上維持穩(wěn)定的生產(chǎn)流程。
另一類是用于印刷線路板加厚或電鑄的化學(xué)沉銅液。沉積層的厚度在20~30μm以上。這時(shí)對(duì)鍍層的厚度和延展性有一定要求,對(duì)鍍液的要求是以反應(yīng)快速為主。鍍液的溫度通常在60~70°C之間,而不是像前一種類型是在常溫下操作。