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1.陽(yáng)極氧化的第一階段
無(wú)孔層的形成階段，ab段，通電開(kāi)始斷時(shí)間（幾秒到幾十秒）內(nèi)電壓劇增，達(dá)到臨界電壓，（電壓的最大值）表明這時(shí)陽(yáng)極表面形成了連續(xù)、無(wú)孔的薄膜層。無(wú)孔層電阻較大，阻礙了膜的繼續(xù)增厚，無(wú)孔層的厚度與形成電壓成正比，氧化膜在電解液中溶解速度成反比。厚度約0.01～0.1微米。
2.陽(yáng)極氧化的第二階段
多孔層形成階段，bc段，在膜最薄的地方將首先被溶解出空穴來(lái)，電解液就可以通過(guò)這些空穴到達(dá)鋁的新鮮表面，電化學(xué)反應(yīng)得以繼續(xù)進(jìn)行，電阻減小，電壓隨之下降（下降幅度為最高值的10～15%），膜上出現(xiàn)多孔層。
3.陽(yáng)極氧化的第三階段
多孔層增厚，cd段，這時(shí)電壓平穩(wěn)而緩慢的上升，這時(shí)無(wú)孔層不斷被溶解成多孔層，新的無(wú)孔層友在生長(zhǎng)，這樣多孔層就在不斷增厚，當(dāng)生成速度與溶解速度達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡時(shí)，膜的厚度就不再增加，這時(shí)反應(yīng)就應(yīng)該停止了。
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