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高精密 高難度 電鍍技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)者
金屬材料一般是以合金的形式進(jìn)行使用，具有良好的強(qiáng)度與塑性配合，優(yōu)良的加工性，許多金屬還有優(yōu)異的物理特性，因而應(yīng)用非常廣泛。但是，金屬材料的表面在外界環(huán)境的作用下亦容易發(fā)生各類(lèi)磨損、腐蝕、氧化和疲勞等破壞，這方面造成的損失是十分巨大的。此外，許多零部件要求的表面性能與心部性能間存在一定矛盾，整體處理時(shí)往往兩者不能兼顧。因此，金屬材料的表面強(qiáng)化技術(shù)受到人們的高度重視。
金屬表面形變強(qiáng)化如噴丸、滾壓和內(nèi)孔擠壓等技術(shù)的應(yīng)用已有較長(zhǎng)的歷史。例如噴丸強(qiáng)化技術(shù)，產(chǎn)生于本世紀(jì)20年代，最先在汽車(chē)行業(yè)中應(yīng)用，60年代后又在航空工業(yè)中得到更廣泛的應(yīng)用，尤其是一些關(guān)鍵承力部件經(jīng)噴丸強(qiáng)化后抗疲勞性和抗應(yīng)力腐蝕能力有了明顯的提高，而生產(chǎn)成本低廉，因此成為一種重點(diǎn)采用的表面技術(shù)。
表面熱處理和化學(xué)熱處理是人們?cè)缇褪褂玫谋砻婕夹g(shù)，20世紀(jì)初，許多物理學(xué)家研究了低壓氣體中的放電現(xiàn)象，后來(lái)這類(lèi)放電現(xiàn)象不僅是熒光照明工業(yè)的基礎(chǔ)，而且也成了等離子熱化學(xué)技術(shù)和等離子鍍膜技術(shù)的基礎(chǔ)。70年代以來(lái)，由于電力和電子工程領(lǐng)域取得的進(jìn)展，晶閘管控制的滅弧斷路器的誕生，促進(jìn)了離子滲碳技術(shù)在工業(yè)中的應(yīng)用。物理氣相沉積（PVD）技術(shù)由最初的真空蒸鍍到1963年離子鍍技術(shù)的應(yīng)用，并與“濕法”電鍍技術(shù)展開(kāi)了有力的競(jìng)爭(zhēng)?；瘜W(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)也從原來(lái)用于高純金屬的精煉以及半導(dǎo)體和磁性薄膜的制造，逐步成為金屬材料表面強(qiáng)化技術(shù)的一個(gè)重要手段，尤其是用于硬質(zhì)合金和合金鋼工模具表面的涂覆。
利用荷能離子與材料表面的相互作用，改變表面成分和結(jié)構(gòu)，從而改善性能的離子注入技術(shù)，不僅用于電子工業(yè)以及無(wú)機(jī)非金屬材料和有機(jī)高分子材料的表面改性，也是金屬材料表面強(qiáng)化的重要途徑。后來(lái)人們又將離子注入和鍍膜技術(shù)結(jié)合起來(lái)，發(fā)展出新穎的離子束合成薄膜技術(shù)。
自本世紀(jì)60年代以來(lái)，激光和電子束等新熱源具有能量集中、加熱迅速、加熱層薄、自激冷卻、變形很小、無(wú)需淬火介質(zhì)、有利環(huán)境保護(hù)、便于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化等優(yōu)點(diǎn)，因而在金屬材料表面強(qiáng)化方面的應(yīng)用越來(lái)越廣泛。
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